国产CPU
从全球范围来看，伴随12英寸与8英寸晶圆需求的上升，进一步催生硅片需求量。根据SUMCO发布的全球12英寸晶圆需求预测数据，到2025年将达到910万片/月，其中需求占比最大的终端应用为智能手机，其次为数据中心、PC/平板电脑、汽车，此外，数据中心及汽车对12英寸晶圆的需求增长最为快速。由于我国大硅片发展起步晚，正积极追赶国际先进产品研发和大规模量产的步伐。随着12英寸大硅片实现突破，叠加国产替代的大趋势之下，国产12英寸硅片迎来巨大的机遇。
天风证券认为，在设备领域，国内清洗设备、CMP设备等已经形成部分国产替代，而材料领域如ArF、KrF光刻胶等，国内光刻胶企业逐渐形成了国内已有节点中较先进产品的点突破。同时产业资本也在持续助推国产替代进程，这些领域的替代支撑着国内28nm产品制造的稳步发展。
在芯片制造业、光刻机的成本占比在23%到30%左右，刻蚀机的成本占比在20%到27%左右。根据Gartner统计，2021年全球刻蚀设备、薄膜沉积和光刻设备分别占晶圆制造设备价值量约259%、119%和152%。刻蚀设备已经成为半导体晶圆制造中的关键设备，在半导体制造中的重要性凸显。
有数据统计，在2019年上半年，整个半导体销售市场规模约为2000亿美元，其中65%芯片采用14nm制程工艺，仅10%左右的芯片采用7nm，25%左右采用10nm和12nm，14nm可以说是当下应用最广泛、最具市场价值的制程工艺，同样也拥有更庞大的应用级市场空间。目前，上海企业已经实现14纳米先进工艺规模量产，意味着我国国产替代将占据更多的市场份额。
中信证券表示，国内CPU厂商分别以X86/MIPS/ARM等指令集为起点，大力投入研发保持架构先进，推动产业开放构建自主生态，加速追赶全球头部企业。国产化需求持续释放，以党政/行业为代表的信息技术创新加速落地，国产CPU迎来发展黄金期。看好国产CPU龙头的发展与投资机遇。
90纳米光刻机：上海电气：公司是上海微电子最大股东，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，主要产品是SSX600系列步进扫描投影光刻机，可满足集成电路前道制造90nm、110nm和280nm光刻工艺需求。
据Gartner预测，全球刻蚀设备市场规模将由2020年123亿美元增长至2024年152亿美元。在众多利好因素助推下，作为刻蚀设备领军企业，随着刻蚀设备在国内市场份额稳步提升，必将更好的实现业绩增长。
据悉，目前的代工厂里，拥有14nm技术的企业包括英特尔、台积电、三星、格罗方得、联电等。中芯国际则是继它们之后，首先掌握14nm技术并实现量产的唯一中国本土企业。对于全球大型芯片制造厂商而言，28nm芯片技术已经非常成熟，产能显得有些过剩。而在另一端，10nm以下制程技术则非常尖端，只有台积电、三星和英特尔具备这样芯片加工实力。而居于两者中间位置的14nm显然成为了中坚力量，成为绝大多数中高端芯片的主要制程。
CPU是计算机的底层基础硬件，整个软件生态架构都建立在底层CPU架构之上。据东吴证券研报显示，CPU赛道空间广阔，2020年国内桌面CPU出货量约5000万片，服务器CPU出货量约700万片。全球CPU市场主要有Intel和AMD两大巨头垄断，2021年两大CPU巨头Intel和AMD营收合计超过900亿美元。中国国产CPU最强性能相当于海外巨头中端产品，生态建设相比于海外巨头仍有不小差距，芯片代工制造换届国产化率较低，是海外“卡脖子”重要环节。
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5纳米刻蚀机
海通证券表示，集成电路产业为国家战略性新兴产业，关系到信息安全问题，战略地位极其重要。预计2022E、2023E我国晶圆代工、封装测试端仍将维持较高水位的资本开支，产能扩充主要满足国内芯片设计公司的代工、封装测试需求。受益于下游资本开支持续，该行认为国内半导体设备公司的核心成长逻辑仍然是伴随下游产线的不断建设带来国产设备渗透率的不断提升。
12英寸大硅片
国产CPU：海光信息：公司在投资者互动平台表示，公司将海光CPU产品规划为海光7000系列、海光5000系列和海光3000系列。其中，海光7000系列产品主要应用于高端服务器，主要面向数据中心、云计算等复杂应用领域。
14纳米先进工艺：中芯国际：公司早在2019年就已经实现14纳米芯片工艺风险量产，目前已经实现大规模量产，而且良品率已经达到国际先进水平。
近年来，本土晶圆产线上相对成熟的国产设备价值量占比上升。目前中国大陆的半导体产业，刻蚀设备已进入成熟期，市场空间不断扩大。国产刻蚀设备在技术方面不断突破，刻蚀设备龙头北方华创和中微公司都在各自细分领域取得突破，进入到更多的产线。据市场消息，由中微半导体设备股份有限公司制造的刻蚀机，将于今年下半年运往台积电美国工厂，用于5纳米工艺芯片生产。
14纳米先进工艺
在现代芯片制造中，光刻机可谓是一项必需的设备，在晶圆加工成芯片的过程中，包括光刻气体，光刻胶以及光罩在内的一系列光刻工艺步骤，都需要光刻机来完成，而这些步骤占据了晶圆加工流程的30%。
5纳米刻蚀机：中微公司：目前公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65nm到5nm及更先进工艺的众多刻蚀应用。
据集微咨询分析认为，自2017年开始，大硅片项目集中签约落地，国内来看已有超20座大硅片项目落地，部分规划项目在推进过程中出现搁置情况，搁置率超25%。伴随政策红利、市场需求以及国产化热潮，国产厂商逐渐起步。12英寸半导体硅片规划产能已超8000万片/年。但搁置项目之外，国内在建大硅片厂12英寸硅片产能超6000万片/年。
90nm的光刻机，可以用来做电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等。90nm工艺的芯片完全可以满足国民生产需求。芯片有几十万种，可以说70%的都是中低端光刻机生产的。此外，90nm光刻机经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm的水平。
90纳米光刻机
IDC数据显示，2021年，全球PC端出货量达到49亿台，国内PC出货量达到5700万台，中信证券测算PC端CPU市场2021年市场规模为570亿元，同比增速8%。此外，数据显示，2021年全球服务器出货量为1354万台，国内服务器出货量375万台，中信测算对应CPU市场规模为799亿元，同比增速14%。
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